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            什么是真空濺射設(shè)備?

            發(fā)布時間:2022-12-12 點擊量:909

            什么是真空濺射設(shè)備?

            濺射機通常是一個小型密封室,其中高能粒子(如電子)轟擊源材料,將原子從表面噴出。然后,這些原子在腔室壁反彈,覆蓋腔室內(nèi)的靶材。可通過掃描電子顯微鏡(SEM)觀察納米尺度的特征,這主要是依靠樣品的導(dǎo)電性,因此往往會先在樣品上涂上一層薄薄的鉑以供觀察。濺射機技術(shù)的其他用途包括在半導(dǎo)體工業(yè)、平面顯示、存儲、太陽能電池等領(lǐng)域進行薄膜沉積工作,以及在材料表面層進行蝕刻以確定其化學(xué)成分。

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            MSP-1S設(shè)備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍層。該設(shè)備進行貴金屬涂層以防止SEM樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生效率。除了磁控管靶電極的低壓放電外,樣品臺是浮動的,以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的角落活躍。

            用法
            SEM 樣品的金屬涂層設(shè)備。

            雖然濺射機制備樣品的機器可能非常復(fù)雜和昂貴,但濺射設(shè)備不必如此。這些機器可以是相對簡單的設(shè)備,只需要根據(jù)既定的物理原理運行,并且通常缺少活動部件或需要復(fù)雜的維護。它們的尺寸范圍小到可以直接擺放在桌面,大到需要擺放在地面。

            物理氣相沉積是濺射機設(shè)計中常用的一種方法。沉積材料在低壓下(通常是部分真空)在濺射室中轉(zhuǎn)化為蒸汽。蒸汽冷凝到腔室中的襯底材料上,形成薄膜。這種薄膜只能有幾層原子或分子厚度,并且厚度與濺射過程的持續(xù)時間成正比。薄膜厚度的其他因素包括所涉及的每種材料的質(zhì)量和涂層粒子的能級,涂層粒子可以從幾十電子伏充電到數(shù)千電子伏。


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