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            關(guān)于shinkuu磁控濺射設(shè)備技術(shù)分析

            發(fā)布時(shí)間:2022-11-07 點(diǎn)擊量:751

            關(guān)于shinkuu磁控濺射設(shè)備技術(shù)分析


            磁控濺射系統(tǒng)是利用靶材背面的強(qiáng)磁體促進(jìn)陰極表層電離,利用磁場(chǎng)使離子與靶材碰撞并噴出金屬分子的原理。
            金和鉑等貴金屬主要用于電子顯微鏡應(yīng)用。我們還有一系列可以濺射其他金屬靶材的型號(hào)。

            電子顯微鏡濺射,主要粒徑比較


            Au:金
            觀察區(qū)域:數(shù)千~10,000 倍
            Au—Pd:金鈀
            觀察區(qū)域:10,000 ~ 50,000 倍
            適合對(duì)比度良好的低倍率觀察。

            Pt:鉑
            觀測(cè)面積:50,000~100,000倍
            Pt--Pd:鉑鈀
            觀測(cè)面積:30,000~50,000倍
            粒徑細(xì),常用于高倍率觀測(cè)。

            W:鎢
            觀察倍率:100,000倍以上

            粒徑具有與鋨相當(dāng)?shù)募?xì)度,能夠在比鉑更高的倍率范圍內(nèi)進(jìn)行觀察。






























            相關(guān)產(chǎn)品特點(diǎn)及運(yùn)用指南

            設(shè)備特征目標(biāo)金屬
            MSP-mini
            超小型濺射設(shè)備
            適用于光學(xué)顯微鏡,適合用于制作有光澤的銀膜,以及用于 SEM 和臺(tái)式 SEM 的預(yù)處理。
            MSP-1S
            是一種帶有內(nèi)置泵的緊湊型濺射系統(tǒng)。
            還可用于濺射鉑靶材,可用于高達(dá)約50,000倍的高倍率觀察。



            MSP20 系列以高功能和簡(jiǎn)單操作的概念開(kāi)發(fā)。具備調(diào)整功能、自動(dòng)排氣順序、聯(lián)鎖功能等各種需求的性能陣容。各有特點(diǎn),UM是樣品旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),MT是4英寸靶材,TK是鎢濺射能力。

            設(shè)備特征目標(biāo)金屬
            MSP-20UM
            功能可調(diào),適用于各種應(yīng)用。設(shè)置條件后,可以使用全自動(dòng)按鈕進(jìn)行自動(dòng)沉積。
            可選傾斜旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。提高車削性能。
            配備氬氣導(dǎo)入,可以鍍上更高純度的貴金屬薄膜。
            聯(lián)鎖和安全機(jī)構(gòu)也是重要的濺射設(shè)備。
            MSP-20MT
            這是4英寸晶圓的濺射系統(tǒng),配備φ100mm尺寸的靶電極。
            該設(shè)備概念基于 MSP-20,可對(duì)更廣泛的樣品進(jìn)行涂層。

            該設(shè)備專為MSP-20TK鎢濺射而開(kāi)發(fā)。它也可用于超高分辨率 SEM 觀察。大容量電源可以濺射貴金屬以外的多種金屬。
            氬氣用作氣氛氣體。風(fēng)冷磁控管靶可減少樣品損壞并防止靶溫升高。

            這是一種特殊的濺射設(shè)備,支持在半導(dǎo)體制造過(guò)程中對(duì)大面積晶片進(jìn)行濺射。提供 8 英寸和 12 英寸兩種尺寸。

            設(shè)備特征目標(biāo)金屬

            采用磁控靶電極實(shí)現(xiàn)了直徑為200 mm的大面積樣品臺(tái),以滿足更大尺寸的MSP-8in硅襯底的需求。更大的樣品臺(tái)可以同時(shí)鍍膜 8 英寸晶圓和多個(gè) SEM 樣品,從而提高檢測(cè)工作的效率。

            采用磁控靶電極實(shí)現(xiàn)了直徑為300 mm的大面積樣品臺(tái),以滿足更大尺寸的MSP-12in硅基板的需求。更大的樣品臺(tái)可同時(shí)鍍膜 12 英寸晶圓和多個(gè) SEM 樣品,提高檢測(cè)工作效率。


            對(duì)于形狀復(fù)雜、超高倍率觀察20萬(wàn)倍以上的樣品,請(qǐng)考慮包覆性好、顆粒細(xì)的鋨鍍膜機(jī)。


            Os:鋨 由于
            涂層是在氣體氣氛中進(jìn)行的,因此它對(duì)樣品的滲透性非常好,并且粒徑非常小。
            主要用于對(duì)生物樣品和具有三維結(jié)構(gòu)的樣品進(jìn)行涂層。

            W:鎢
            粒子系與鋨相當(dāng),但由于成膜方法的不同,在環(huán)繞性方面不如鋨涂布機(jī)。


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